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摄影影片;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 粉盒及其生产方法与流程
    本发明涉及电子照相成像,具体地说,是涉及一种粉盒及其生产方法。电子照相成像设备如激光打印机,是一种利用电子照相原理,至少经过充电,暴光,显影,转印,定影,清洁的过程,在图像形成介质如纸张上形成图像的设备。通常显影所消耗的显影剂一般由粉盒提供,粉盒可拆卸地安装在激光打印机内,粉盒包括...
  • 一种显影剂供应装置的制作方法
    本发明涉及显影剂供应,尤其涉及一种显影剂供应装置。现有的图像形成装置所具备的在内部收容显影剂的显影剂供应容器。图像形成装置具备载体、显影装置以及显影剂供应容器和收容容器。如果从显影装置向像载体提供显影剂,则形成在像载体上的静电潜像被显现为显影剂像。显影剂供应容器具备显影剂排出口,向...
  • 基于物联网的智能激光彩色打印系统的制作方法
    本发明涉及物联网打印机,具体而言,涉及一种基于物联网的智能激光彩色打印系统。现有技术中,针对一个物联网的打印机系统而言,通常需要多个激光彩色打印机相互通信协作实现联动打印。然而,实际场景中,由于激光彩色打印机本身物联网控制类型的不同,与其它激光彩色打印机之间的联动关系不同,在每次打...
  • 一种新型的打印机碳粉的制造方法与流程
    本发明涉及碳粉领域,特别涉及一种新型的打印机碳粉的制造方法。碳粉的主要成分不是碳,而大多数是由树脂和碳黑、电荷剂、磁粉等组成,市面上打印机中的硒鼓或粉盒或粉筒,在打印使用过程均会散发出一种刺鼻性气味,同时所打印出来的介质表面也一样散发着同样的气味,这是因为硒鼓或粉盒或粉筒中的碳粉经高温融化...
  • 本发明涉及电子照相用品,更具体地,涉及一种苯丙树脂型调色剂及其制备方法和应用。调色剂是激光打印、数码复印所需的关键耗材,主要由树脂、颜料、添加剂等组成。近年来,对于打印机、复印机的高速化、节能化、小型化等要求越来越高,需要进一步改善调色剂的低温定影性。以苯丙树脂作为粘合树脂的调色剂...
  • 本发明涉及电子化学品,具体涉及pfa光刻胶再生剥离液及其制备方法与应用。在国内,高世代液晶显示面板pfa制程工艺,还属国内首创,国内企业的常规剥离液产品技术性能不稳定,其技术指标很难达到产线要求,有以下几个原因:1、pfa材料是一种耐高温耐低温耐酸碱的新型有机材质,一般的弱碱性药液...
  • 本发明涉及一种超临界co2光刻胶去除液,特别涉及该光刻胶去除液除去光刻胶的去除方法,属于环境。现有技术中,光刻胶的去除主要有干法去胶法和湿法去胶法。其中湿法去胶法是一种化学方法,利用对胶体有化学吸附作用去除基体上的胶体。传统工艺采用硫酸双氧水去胶工艺,需要将基体浸泡10分钟以上才可...
  • 提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机的制作方法
    提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机。描述段落。提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机。发明内容发明内容描述段落。(下面有形象图)将螺丝头镶嵌在一个圆盘a中心,螺母位置不变,圆盘a旋转一周,螺丝杆a就会向前伸出(此处只讲...
  • 光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置及方法与流程
    本发明涉及双光束干涉曝光制备衍射光栅领域,具体是针对光栅制备流程中光刻胶光栅掩膜制备工艺中的光刻胶扫描曝光预处理。衍射光栅是拍瓦超强超短激光装置、高能光谱合束激光武器、高端光谱仪以及高精度位移测量工件台等系统的核心元件,其制备流程十分复杂,主要包括光栅基板加工、光栅基板表面光刻胶涂覆、干涉...
  • 一种具有高速轴向扫描能力的三维直写光刻方法及装置与流程
    本发明属于光学工程领域,特别涉及一种具有高速轴向扫描能力的三维直写光刻方法及装置。激光直写光刻技术是一种具有亚微米加工精度,又具备三维打印能力的微纳加工技术。可以灵活地制造相应尺度结构的机械、电子和光学器件。同时,简化了加工工艺,特别适合用于新型器件的研究与试制。激光直写加工技术根据其实现...
  • 一种挡板装置和曝光机的制作方法
    本发明涉及光刻装置,尤其设计一种挡板装置和曝光机。在光刻技术中,曝光机一般包括光源、掩模版以及透镜。掩模版是一种表面被各种图案覆盖的玻璃板,光源通过掩模版可将图案投射到涂有光刻胶的晶片上,生成三维的浮雕图案,用于辅助在晶片上刻蚀电路图案。在实际使用过程中,可能有将掩模版上的图案部分投射的需...
  • 光刻系统的扫描方法和光刻系统与流程
    本发明涉及光刻,尤其涉及光刻系统的扫描方法和光刻系统。光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上,然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。dmd(digitalmicromirrordevice,数字微镜器件)无掩膜光刻技术是从传统光学光刻技术衍生出的...
  • 无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法与流程
    本发明涉及光刻,尤其涉及一种无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法。光刻是实现芯片加工图形转移的重要技术,光刻主要分为光学光刻和非光学光刻两大类。区别于光学光刻,非光学光刻不依赖于掩模版,可直接在待加工晶圆上形成图形,既减小了技术复杂度,又降低了芯片开发成本,故成为备受关注的下一代...
  • 极紫外光产生装置及方法与流程
    本申请涉及极紫外光源(extremeultra-violet,euv),特别是涉及一种极紫外光产生装置及方法。随着电子产品不断的更新换代,其内部的电路复杂度不断提高,集成度也越来越高。传统的近紫外光源(nearultra-violet,nuv)和深紫外光源(deepultra-vi...
  • 一种多焦点激光并行直写密排纳米结构的光刻曝光系统及方法与流程
    本发明涉及点无掩模直写光刻领域,更具体地,涉及一种多焦点激光并行直写密排纳米结构的光刻曝光系统及方法。传统的光刻工艺中需要使用价格昂贵的铬玻璃实体掩膜板,而且在实验研发环境中掩膜板的设计通常需要经常改变。而无掩膜光刻技术,特别是扫描直写光刻,通过以计算机设计电子掩膜板的方法,能够有效克服以...
  • 定位装置、曝光装置以及物品的制造方法与流程
    本发明涉及对板进行定位的定位装置、包括该定位装置的曝光装置以及物品的制造方法。作为在液晶面板或半导体器件的制造工序(光刻工序)中使用的装置之一,已知一边使原版与基板相对地扫描一边对基板进行曝光的曝光装置。在这样的曝光装置中,为了在基板上高精度地形成图案,要求提高保持原版、基板的载置台的定位...
  • 支撑装置、投影光学系统、曝光装置、物品制造方法及调整方法与流程
    本发明涉及支撑装置、投影光学系统、曝光装置、支撑装置的调整方法以及物品制造方法。目前正在寻求能够进行跟正交的2个轴方向上的位置以及围绕与该2个轴方向正交的轴的旋转相关的微调整且能以高刚性支撑物体的支撑装置。作为这样的装置,在专利文献1中提出了具有柔性铰链以及促动器的工作台装置。该工作台装置...
  • 一种散射测量装置及散射测量方法与流程
    本发明实施例涉及半导体技术,尤其涉及一种散射测量装置及散射测量方法。根据国际半导体技术蓝图(internationaltechnologyroadmapforsemiconductors,itrs)给出的光刻测量技术路线图,随着光刻图形关键尺寸(criticaldimension,cd)进...
  • 步进曝光机的控制设备与控制方法与流程
    本发明是关于一种控制设备与控制方法,且特别是关于一种步进曝光机的控制设备与控制方法。随着半导体技术的发展,各式电子装置不断推陈出新。在芯片的制造过程中,需要经过曝光、显影、蚀刻等制程。光阻经由曝光制程后,于显影制程中呈现出遮罩图样,并通过此遮罩图样蚀刻金属层,以形成层线路。因此,曝光制程的...
  • 适用于无前烘工艺的感光性组合物及其制备方法与流程
    本发明涉及液晶显示,尤其涉及一种适用于无前烘工艺的感光性组合物、彩色滤光片及其制备方法。彩色滤光片作为液晶显示器的重要组成部分,其性能直接影响液晶显示器的显示效果,一般利用彩色光刻胶组合物在玻璃基板上进行涂胶、真空干燥(vcd)+前烘(以下称为“hp”)、曝光、显影和后烘,从而制备...
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