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一种用于提升石英微机械三维结构对准精度的方法与流程

文档序号:24940722发布日期:2021-05-04 11:33

技术特征:

1.一种用于提升石英微机械三维结构对准精度的方法,其特征在于该方法的步骤包括:

根据石英晶面方向,设计两块掩膜版,其中第一次光刻掩膜版上设计结构版图和内部对准标记结构;第二次套准掩膜版上设计电极版图以及外部对准标记结构;所述外部对准标记结构位置处于内部对准标记结构外围区域,所述内部对准标记结构为六个晶面中任意晶面组合形成的封闭图形;

利用第一次光刻掩膜版进行一次光刻,将结构版图和内部对准标记结构转移到涂覆光刻胶的石英晶片表面,并进行显影;

对显影后的石英晶片进行化学腐蚀,腐蚀石英微机械结构和内部对准标记结构;

移动化学腐蚀后带有石英微机械结构的石英晶片,将第二次套准掩膜版上的外部对准标记结构与石英晶片上的内部对准标记结构进行对准,进行二次光刻或者金属蒸镀、溅射工艺,将第二次套准掩膜版上的电极结构版图转移到已经腐蚀出石英微机械结构的晶片表面,获得带表面电极的石英微机械三维结构。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的外部对准标记结构形状与内部对准标记结构形状相同。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:将内部对准标记结构按照多封闭图形组合的方式进行分组,所述外部对准标记结构形状与组合后的封闭图形外形相同。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的对准即当外部对准标记结构与内部对准标记结构的中心重合,表明晶片上石英微机械结构和第二次套准掩膜版上电极版图水平、垂直位置实现对准。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的内部对准标记结构为第一次光刻掩膜版上金属层构成的镂空或实心图案。

二次光刻、或者金属蒸镀、溅射工艺中,外部对准标记结构为第二次套准掩膜版上金属层构成的镂空图案。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:第一次光刻掩膜版上的结构版图为石英微机械结构图,第二次套准掩膜版上的电极版图为图案化电极结构。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:对准标记结构为任意多个腐蚀速率相同的晶面组成的封闭图形或封闭图形的组合。

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